Е. Г.
Компания Interface (www.interface.ru) поставила и установила программно-аппаратный комплекс NanoMaker в Национальной физической лаборатории стандартизации (NPL, www.npl.co.uk) Великобритании. NanoMaker (www.nanomaker.ru) предназначен для проектирования, подготовки данных, а также для создания двух- и трехмерных структур методами электронной литографии на базе растровых электронных микроскопов.
Лаборатория NPL выбрала NanoMaker по таким показателям, как функциональные возможности и удобство использования. Так, интуитивно понятный графический интерфейс упрощает создание и проектирование структур, моделирование проявления резиста, учет коррекции эффекта близости для плоских и трехмерных структур, расчет компенсации статических искажений отклоняющей системы, измерение и подавление динамических ошибок отклоняющей системы пучка. Кроме того, предусмотрены средства для проектирования и моделирования таких сложных структур, как голограммы и киноформная оптика, а также для работы с дозовыми кривыми резистов для трехмерных структур. В NanoMaker включены функции работы со столом, снятия изображения и "врисовывания" в существующие структуры с высокой степенью точности. Предоставляет он и возможность работы со снятым изображением: можно выполнять его сглаживание, просматривать поперечное сечение, наносить метки масштаба и надписи.
Графический редактор использует в качестве базовых элементов как простые, так и сложные геометрические объекты (один из таких новых элементов - зонная пластина). Можно работать с текстом, пользоваться функцией задания текущего времени, обрабатывать изображения в различных форматах, таких, например, как .dfx, .csf, .gds, .tif, .bmp. Имеется справочная таблица, содержащая информацию и рекомендации практически по всем известным материалам резиста и подложки.
В лаборатории NPL данный комплекс установлен на микроскопе Hitachi S-4000 SEM, что позволило преобразовать его в литографическую систему. Однако поддерживается и другое оборудование. В настоящее время NanoMaker эксплуатируется на микроскопах JEOL JSM-840, LEO1560, BS-300, Philips SEM 525, Hitachi S-4000, на комплексах ZRM-12, ZRM-20, а также на ионных литографах с фокусированным пучком. Программая часть комплекса представляет собой 32-разрядное приложение для работы в средах Windows 9x, NT, 2000 и XP.
